అల్యూమినియం పౌడర్ యొక్క అప్లికేషన్ ఫీల్డ్‌లు

1- మెటాలిక్ పిగ్‌మెన్

【కణ పరిమాణం మ్రోగింది】D50=1 – 50 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】: అల్ ≥ 99.80%

【అపరిశుభ్రత నియంత్రణ】:Fe≤0.08%,Si≤0.06%,H2O≤0.1%,ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】：తెలుపు మరియు ప్రకాశవంతమైన రంగు, బలమైన లోహ ప్రభావం, అధిక కవరేజ్ రేటు, వివిధ బ్యాచ్‌ల మధ్య స్థిరమైన నాణ్యత, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

2- థర్మల్ ఇంటర్ఫేస్ మెటీరియల్

థర్మల్ కండక్టివిటీ పరిశ్రమ, థర్మల్ ఇంటర్‌ఫేస్ మెటీరియల్, థర్మల్ కండక్టివ్ సిలికాన్ గ్రీజు మరియు థర్మల్ కండక్టివ్ అంటుకునే వాటికి అనుకూలంగా ఉంటుంది

కణ పరిమాణం పరిధి:D50=1 – 70 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】: అల్ ≥99.8%

【అపరిశుభ్రత నియంత్రణ】:Fe≤0.08%,Si≤0.06%,H2O≤0.1%,ఒకటి ≤0.01%

【లక్షణాలు】:అధిక స్వచ్ఛత, మంచి ఉష్ణ వాహకత పనితీరు, మంచి ప్రాసెసింగ్ పనితీరు మరియు ముతక కణాలపై మంచి నియంత్రణ, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

3- సోలార్ సెల్ కండక్టివ్ పేస్ట్

సాంప్రదాయ అల్యూమినియం పేస్ట్, PECK మొదలైన వాటితో సహా సౌర ఘటం కండక్టివ్ పేస్ట్ పరిశ్రమకు అనుకూలంగా ఉంటుంది, ఇది ఉత్పత్తి యొక్క మంచి నాణ్యతను కలిగి ఉంటుంది.

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=2 – 10 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】:Al ≥99.8 అశుద్ధ నియంత్రణ:Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】: అధిక స్వచ్ఛత, మంచి విద్యుత్ వాహకత, మంచి ప్రాసెసింగ్ పనితీరు మరియు పరివర్తన యొక్క అధిక సామర్థ్యం, ​​అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

4- పౌడర్ మెటలర్జీ

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=10 – 300 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】: అల్ ≥99.8%

【అపరిశుభ్రత నియంత్రణ】:Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, ఇతరత్రా ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】：అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ మలినాలు మరియు మంచి ప్రాసెసింగ్ పనితీరు, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

5- స్పుట్టరింగ్ లక్ష్యాలు

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=20 – 70 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】：అల్ ≥99.8% అశుద్ధ నియంత్రణ:Fe≤0.08%,Si≤0.06%,H2O≤0.1%,ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】:అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ మలినాలు, తక్కువ ఆక్సిజన్ కంటెంట్ మరియు మంచి ప్రాసెసింగ్ పనితీరు, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

6- కెమిస్ట్రీలో

రసాయన ఉత్ప్రేరక పరిశ్రమకు అనుకూలంగా ఉంటుంది మరియు విలువైన లోహ ఉత్ప్రేరకం లేదా సేంద్రీయ ఉత్ప్రేరకం యొక్క క్యారియర్‌గా ఉపయోగించవచ్చు. ఇది ఆల్కైల్ అల్యూమినియం, ఎనర్జిటిక్ ఇంధనం, టైటానియం డయాక్సైడ్ మరియు ఇతర పరిశ్రమలకు కూడా వర్తిస్తుంది.

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=30 – 500 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】:అల్ ≥99.8% అశుద్ధ నియంత్రణ:Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】:అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ అశుద్ధత, మంచి గోళాకారం మరియు సాంద్రీకృత పంపిణీ, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

7- థర్మల్ స్ప్రే

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=30 – 100 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】：అల్ ≥99.8% అశుద్ధ నియంత్రణ:Fe≤0.08%,Si≤0.06%,H2O≤0.1%,ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】:అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ అశుద్ధత, మంచి కణ పరిమాణం ఏకరూపత, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

8- వక్రీభవన పదార్థం

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=10 – 200 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】:అల్ ≥99.8% అశుద్ధ నియంత్రణ:Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】:అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ అశుద్ధత మరియు మంచి కణ పరిమాణం ఏకరూపత, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

9- 3D ప్రింటింగ్

3D ప్రింటింగ్ టెక్నాలజీ యొక్క సారాంశం "రాపిడ్ ప్రోటోటైపింగ్ టెక్నాలజీ", ఇది డిజిటల్ మోడల్ ఫైల్‌పై ఆధారపడి ఉంటుంది, పౌడర్ మెటల్ లేదా ప్లాస్టిక్ మరియు ఇతర అంటుకునే పదార్థాలను ఉపయోగించి లేయర్ ప్రింటింగ్ ద్వారా వస్తువులను నిర్మించడం.

【కణ పరిమాణం పరిధి】:D50=10 – 200 మైక్రాన్

【స్వచ్ఛత】:అల్ ≥99.8% అశుద్ధ నియంత్రణ:Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, ఇతర ప్రతి≤0.01%

【లక్షణాలు】:అధిక స్వచ్ఛత, తక్కువ అపరిశుభ్రత, మంచి గోళాకారం మరియు సాంద్రీకృత పంపిణీ, అనుకూలీకరించిన ఉత్పత్తి అందుబాటులో ఉంది.

10- సైనిక పరిశ్రమ

తో స్పందించవచ్చుHTPB, సాలిడ్ రాకెట్ ప్రొపెల్లెంట్ అడిటివ్, ఏరోస్పేస్ మరియు ఎక్స్‌ప్లోజివ్ మెటీరియల్ కోసం,

11- ఇతర మొదలైనవి…