Pudră de clorură de tantal(v) 99,99% de înaltă puritate TaCl5 cas 7721-01-9

Film subțire feroelectric, agent de clorinare cu reacție organică, acoperire cu oxid de tantal, preparare de pulbere de tantal cu CV ridicat, supercondensator etc.

1. Pe suprafața componentelor electronice, a dispozitivelor semiconductoare, a suprafeței electrodului de titan și nitrură de metal, suprafața metalică de tungsten a format o aderență puternică, o grosime de 0,1 μm a peliculei izolatoare, cu proprietăți dielectrice ridicate.

2. În industria clor-alcalină folie de cupru electrolitică, suprafața anodului electrolitic din industria oxigenului și industria apelor uzate amestecate cu compus de ruteniu, compus din grupul de platină pentru a forma film conductiv de oxid, îmbunătățește aderența filmului, prelungește durata de viață a electrodului mai mult de 5 ani.

3. Pentru a prepara pentoxid de tantal ultrafin.