Aluminium campis applicationis pulveris

1- Metallic Pigmen

.Magnitudo particula insonuit.D50=1 - 50 micron

.Puritas】：Al ≥ 99.80%

.immunditia imperiumFe≤0.08%，Si≤0.06% ，H2O≤0.1%，alterum each≤0.01%

.Features】： Color albus et splendidus, effectus metallicus fortis, rate altus coverage, qualitas constantis inter varias batches, productio nativus praesto est.

2. Scelerisque Interface Material

aptus ad industriam conductivity scelerisque, materia interface scelerisque, silicone adipe scelerisque conductive et tenaces scelerisque prolixas

Magnitudo particula range：D50=1 - 70 micron

.Puritas】：Al ≥99.8%

.immunditia imperiumFe≤0.08%，Si≤0.06% ，H2O≤0.1%，alterum ≤0.01%

.Featuresalta puritas, bona scelerisque conductivity perficiendi, bona processus faciendi et bona moderatio vilium particularum, productio nativus in promptu est.

3 Solaris Cell Conductiva Paste

ad cellulam solarem conductivam crustulum industriam aptum est, incluso aluminium crustulum traditum, PECK etc., quae bona qualitas operis wich.

.Magnitudo particula rangeD50=2 - 10 micron

.Puritas】：Al ≥99.8 Impuritas imperium：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, alia each≤0.01%

.Featuresalta puritas, bona electricitatis conductivity, bonus processus effectus et summus mutationis efficientia, productio nativus praesto est.

4- Metallurgy Pulvis

.Magnitudo particula rangeD50=10 - 300 micron

.Puritas】：Al ≥99.8%

.immunditia imperium】：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, alia each≤0.01%

.Featuresalta puritas, humilis immunditiae et bonae operationis processus, productio nativus in promptu est.

5- Sputtering Targets

.Magnitudo particula range】：D50=20 - 70 micron

.Puritas】：Al ≥99.8% Impuritas imperium：Fe≤0.08%，Si≤0.06%，H2O≤0.1%， other each≤0.01%

.Features- summa puritas, humilis immunditia, humilis dolor contenta et bona processus effectus, productio nativus in promptu est.

6- In Chemia

apta catalysis industriae chemica et adhiberi potest sicut catalyst seu organicus catalyst metallicus tabellarius. Etiam alkyl aluminium, cibus energeticus, titanium dioxidum et aliae industriae valent.

.Magnitudo particula rangeD50=30 - 500 micron

.Puritas】：Al ≥99.8% Impuritas imperium：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, alia each≤0.01%

.Features- Puritas alta, humilis immunditia, bona sphaeritas et contracta distributio, productio nativus in promptu est.

7. Scelerisque Spray

.Magnitudo particula rangeD50=30 - 100 micron

.Puritas】：Al ≥99.8% Impuritas imperium：Fe≤0.08%，Si≤0.06%，H2O≤0.1%， other each≤0.01%

.Featurespuritas alta, humilis immunditia, bona particula magnitudo uniformitatis, productio nativus in promptu est.

8- Refractory Material

.Magnitudo particula rangeD50=10 - 200 micron

.Puritas】：Al ≥99.8% Impuritas imperium：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, alia each≤0.01%

.Featuresnobilitas castitatis, humilis immunditiae et bonae particulae magnitudo aequalitatis, productio nativus in promptu est.

9- 3D Typographia

Essentia technologiae 3D excudendi est "celeris prototyping technologiae", quae in exemplaribus digitalis innititur, utens pulveris metalli vel plastici et aliarum materiarum adhaesivarum ad obiecta fabricanda per tabulatum imprimendum.

.Magnitudo particula rangeD50=10 - 200 micron

.Puritas】：Al ≥99.8% Impuritas imperium：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, alia each≤0.01%

.Features- Puritas alta, humilis immunditia, bona sphaeria, et contracta distributio, productio nativus in promptu est.

10- Military Industry

potest portavit;HTPBsolidae erucae Propellant Additiva, Aerospace et Explosivae Materiae,

11- Alia etc.