제품

99.9% WS2 황화텅스텐 CAS 12138-09-9 이황화텅스텐 분말

간단한 설명:

화학명 : 황화텅스텐

동의어: 이황화텅스텐; WS2

정밀도: Fsss=0.6μm,1.0μm,1.9μm,3.8μm,5.0μm 등.

순도: ≥99.9%

CAS 번호 12138-09-9


제품 상세 정보

제품 태그

제품 설명

이황화텅스텐: 회색, 육각형 시스템, 반도체 및 반자성.

매우 낮은 마찰계수(0.03), 높은 극압성, 내산화성(공기중 450℃에서 분해 시작, 고온, 고압, 고진공, 고하중, 고속, 고복사, 강한 부식에 적합) , 초저온 및 기타 가혹한 조건.

성능

1. 금속 표면에 대한 흡착력이 좋습니다. 엔지니어링 플라스틱에 첨가하여 윤활 요소를 만들거나 일부 휘발성 용제와 균일하게 혼합한 다음 금속 표면에 뿌릴 수 있습니다. 다이의 수명과 공작물의 표면 마감을 향상시키기 위해 스탬핑 단조에 사용할 수 있습니다.

2. 이황화 텅스텐 분말은 오일 및 지질과 결합하여 이황화 텅스텐 유제, 이황화 텅스텐 페이스트, 이황화 텅스텐 왁스 및 기타 고체 윤활 블록 및 필름을 형성할 수 있습니다.

애플리케이션

텅스텐(IV) 황화물은 화학식 WS2의 화합물입니다. 텅스텐나이트라고 불리는 희귀 광물로 자연적으로 발생합니다. 이 물질은 수소화탈황 및 수소탈질화에 사용되는 특정 촉매의 구성 요소입니다. WS2는 MoS2와 관련된 계층 구조를 채택하고 W 원자는 삼각 프리즘 배위 영역에 위치합니다.

WS2 나노입자는 일반 윤활뿐만 아니라 고온, 고압, 고진공, 고하중 및 방사선 및 부식성 매체가 있는 작업 환경에서도 사용할 수 있는 새로운 고체 윤활제 재료로서 매우 우수한 성능을 발휘합니다. 클러스터 내의 WS2 클러스터는 자기 정렬을 생성하고 윤활 프로세스는 금속 표면에 더 잘 흡착되어 나노 보호 윤활 필름 층을 형성할 수 있습니다. WS2는 매우 작은 마찰 계수(약 0.03)를 가지므로 금속 분말의 첨가제로 사용하여 안정적인 마찰 계수를 얻을 수 있습니다. 나노스케일 WS2는 산화에 대한 저항성이 우수하고 윤활유(그리스)의 첨가제로 사용되어 윤활유(그리스)와 극압 특성 및 내마모 특성을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다. 나노스케일 WS2를 첨가하면 주조 공정에서 주조 금속이 특정 자기 윤활 특성을 갖게 되고 금속 표면에 탁월한 흡착 능력을 갖게 됩니다.

1. WS2 나노입자는 주로 석유촉매에 사용됩니다.

2. WS2 나노입자는 새로운 고효율 촉매입니다.

3. WS2 나노 입자는 고체 윤활제, 건식 필름 윤활제, 자체 윤활 복합 재료로 사용할 수 있습니다.

4. WS2 나노입자는 고성능 윤활제 첨가제를 생성하는 것입니다.

5. WS2 나노 입자는 양극의 연료 전지, 유기 전해질 배터리 양극, 양극의 강산에서 이산화황의 산화 및 양극 센서로 사용될 수 있습니다.

6. WS2 나노입자는 나노-세라믹 복합재를 만드는 데 사용됩니다.

7. WS2 나노입자는 좋은 반도체 소재이다.

사양

이황화텅스텐 분말의 사양
이황화텅스텐 분말 순도
>99.9%
이황화텅스텐 분말 크기
Fsss=0.4~0.7μm
 
Fsss=0.85~1.15μm
 
Fsss=90nm
CAS 번호
12138-09-9
EINECS 번호
235-243-3
이황화텅스텐 분말 MOQ
1kg
이황화텅스텐 분말 밀도
7.5g/cm3
이황화텅스텐 분말 SSA
80m2/g
* 추가: 회사는 고객의 특별한 요구에 따라 신제품을 연구하고 개발할 수 있습니다.

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