उच्च शुद्धता 99.95% गोलाकार अल पाउडर/गोलाकार एल्यूमीनियम पाउडर

1- धात्विक रंगद्रव्य

【कण आकार बजी】：D50=1 - 50 माइक्रोन

【पवित्रता】：अल ≥ 99.80%

【अशुद्धता नियंत्रण】：Fe≤0.08%，Si≤0.06%，H2O≤0.1%，अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: सफेद और चमकीला रंग, मजबूत धातु प्रभाव, उच्च कवरेज दर, विभिन्न बैचों के बीच लगातार गुणवत्ता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

2- थर्मल इंटरफ़ेस सामग्री

थर्मल चालकता उद्योग, थर्मल इंटरफ़ेस सामग्री, थर्मल प्रवाहकीय सिलिकॉन ग्रीस और थर्मल प्रवाहकीय चिपकने वाला के लिए उपयुक्त है

कण आकार सीमा：D50=1 - 70 माइक्रोन

【पवित्रता】：अल ≥99.8%

【अशुद्धता नियंत्रण】：Fe≤0.08%，Si≤0.06%，H2O≤0.1%，अन्य प्रत्येक ≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, अच्छा तापीय चालकता प्रदर्शन, अच्छा प्रसंस्करण प्रदर्शन और मोटे कणों का अच्छा नियंत्रण, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

3- सोलर सेल कंडक्टिव पेस्ट

सौर सेल प्रवाहकीय पेस्ट उद्योग के लिए उपयुक्त है, जिसमें पारंपरिक एल्यूमीनियम पेस्ट, PECK आदि शामिल हैं, जिसमें उत्पाद की अच्छी गुणवत्ता होती है।

【कण आकार सीमा】：D50=2 - 10 माइक्रोन

【पवित्रता】：Al ≥99.8 अशुद्धता नियंत्रण：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, अच्छी बिजली चालकता, अच्छा प्रसंस्करण प्रदर्शन और परिवर्तन की उच्च दक्षता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

4- पाउडर धातुकर्म

【कण आकार सीमा】：D50=10 - 300 माइक्रोन

【पवित्रता】：अल ≥99.8%

【अशुद्धता नियंत्रण】：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धियाँ और अच्छा प्रसंस्करण प्रदर्शन, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

5-स्पटरिंग लक्ष्य

【कण आकार सीमा】：D50=20 - 70 माइक्रोन

【पवित्रता】：Al ≥99.8% अशुद्धता नियंत्रण：Fe≤0.08%，Si≤0.06%，H2O≤0.1%，अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धियाँ, कम ऑक्सीजन सामग्री और अच्छा प्रसंस्करण प्रदर्शन, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

6- रसायन शास्त्र में

रासायनिक उत्प्रेरण उद्योग के लिए उपयुक्त है और इसका उपयोग कीमती धातु उत्प्रेरक या कार्बनिक उत्प्रेरक के वाहक के रूप में किया जा सकता है। यह एल्काइल एल्यूमीनियम, ऊर्जावान ईंधन, टाइटेनियम डाइऑक्साइड और अन्य उद्योगों पर भी लागू होता है।

【कण आकार सीमा】：D50=30 - 500 माइक्रोन

【पवित्रता】：Al ≥99.8% अशुद्धता नियंत्रण：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, अच्छी गोलाकारता और केंद्रित वितरण, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

7- थर्मल स्प्रे

【कण आकार सीमा】：D50=30 - 100 माइक्रोन

【पवित्रता】：Al ≥99.8% अशुद्धता नियंत्रण：Fe≤0.08%，Si≤0.06%，H2O≤0.1%，अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, अच्छे कण आकार की एकरूपता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

8- आग रोक सामग्री

【कण आकार सीमा】：D50=10 - 200 माइक्रोन

【पवित्रता】：Al ≥99.8% अशुद्धता नियंत्रण：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता और अच्छे कण आकार की एकरूपता, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

9- 3डी प्रिंटिंग

3डी प्रिंटिंग तकनीक का सार "रैपिड प्रोटोटाइप तकनीक" है, जो डिजिटल मॉडल फ़ाइल पर आधारित है, जिसमें परत मुद्रण द्वारा वस्तुओं का निर्माण करने के लिए पाउडर धातु या प्लास्टिक और अन्य चिपकने वाली सामग्री का उपयोग किया जाता है।

【कण आकार सीमा】：D50=10 - 200 माइक्रोन

【पवित्रता】：Al ≥99.8% अशुद्धता नियंत्रण：Fe≤0.08%, Si≤0.06%, H2O≤0.1%, अन्य प्रत्येक≤0.01%

【विशेषताएँ】: उच्च शुद्धता, कम अशुद्धता, अच्छी गोलाकारता, और केंद्रित वितरण, अनुकूलित उत्पादन उपलब्ध है।

10- सैन्य उद्योग

के साथ प्रतिक्रिया कर सकते हैंएचटीपीबी, सॉलिड रॉकेट प्रोपेलेंट एडिटिव, एयरोस्पेस और विस्फोटक सामग्री के लिए,

11- अन्य आदि...