99.9% નેનો ઝિર્કોનિયા
ઉપનામ: નેનોમીટર ઝિર્કોનિયા；
મોલેક્યુલર ફોર્મ્યુલા: ZrO2;
મોલેક્યુલર વજન: 123.22;
ગલનબિંદુ: 2700 ° C；
ઉત્કલન બિંદુ: 4300 ° C；
ઘનતા: 5.85g/cm3；
મોહસ કઠિનતા: 7
| મોડલ | ZrO2-001 | ZrO2-002 |
| ક્રિસ્ટલ તબક્કો | મોનોક્લિનિક તબક્કો | મોનોક્લિનિક તબક્કો |
| કણોનું કદ | 20-30nm | 200nm |
| ચોક્કસ સપાટી વિસ્તાર | 50m2/g | 30m2/g |
| ZrO2 (+ HfO2) | >99.9% | >99.9% |
| Al2O3 | ≤0.002% | ≤0.002% |
| SiO2 | ≤0.002% | ≤0.002% |
| Fe2O3 | ≤0.003% | ≤0.003% |
| ઉચ્ચ | ≤0.003% | ≤0.003% |
| એમજીઓ | ≤0.003% | ≤0.003% |
| TiO2 | ≤0.001% | ≤0.001% |
1. લિથિયમ બેટરી સામગ્રી ઉમેરણ.
2. કાર્યાત્મક સિરામિક્સ, માળખાકીય સિરામિક્સ: ઇલેક્ટ્રોનિક સિરામિક્સ, બાયોસેરામિક્સ, સેન્સર સિરામિક્સ, ચુંબકીય સામગ્રી, વગેરે.
3. પીઝોઇલેક્ટ્રિક તત્વ. ઓક્સિજન વેરિસ્ટર. મોટી ક્ષમતા કેપેસિટર.
4. કૃત્રિમ રત્ન, ઘર્ષક સામગ્રી. કાર્યાત્મક કોટિંગ સામગ્રી: કોટિંગમાં ઉમેરવામાં આવે છે જેથી એન્ટી-કાટ, એન્ટી-બેક્ટેરિયલ અસર હોય, વસ્ત્રોના પ્રતિકારમાં સુધારો થાય.
5. પ્રત્યાવર્તન સામગ્રી માટે નેનો ઝિર્કોનિયા: ઇલેક્ટ્રોનિક સિરામિક બર્નિંગ સપોર્ટ પેડ, ફ્યુઝ્ડ ગ્લાસ, મેટલર્જિકલ મેટલ રિફ્રેક્ટરી.
6. નેનો-ઝિર્કોનિયા સિરામિક માળખાકીય ભાગોની કઠિનતા, સપાટીની પૂર્ણાહુતિ અને સિરામિક ઘનતાને સુધારે છે.
7. ઉચ્ચ-શક્તિ, ઉચ્ચ-કઠિનતા અને વસ્ત્રો-પ્રતિરોધક ઉત્પાદનો: મિલ લાઇનિંગ, વાયર ડ્રોઇંગ ડાઇ, હોટ એક્સટ્રુઝન ડાઇ, નોઝલ, વાલ્વ, બોલ, પંપના ભાગો, વિવિધ સ્લાઇડિંગ ભાગો વગેરે.
| 1. | નેનો ઝિર્કોનિયા |
| 2. | યટ્રીયમ સ્થિર ઝિર્કોનિયા નેનોપાવડર |
| 3. | યટ્રીયમ સ્થિર ઝિર્કોનિયા ગ્રેન્યુલેશન પાવડર |
| 4. | અલ્ટ્રાફાઇન ઝિર્કોનિયા |
| 5. | સિરામિક સખત નેનો ઝિર્કોનિયા |
| 6. | બેટરી નેનો ઝિર્કોનિયા |
| 7. | ડેન્ટલ સિરામિક નેનો ઝિર્કોનિયા |
| 8. | નેનો ઝિર્કોનિયા વિક્ષેપ |
