Po de cloruro de tantalio (v) de alta pureza 99,99% TaCl5 cas 7721-01-9

Película delgada ferroeléctrica, axente de cloración de reacción orgánica, revestimento de óxido de tantalio, preparación de po de tantalio de alto CV, supercondensador, etc.

1. Na superficie dos compoñentes electrónicos, dispositivos semicondutores, superficie de electrodos de titanio e nitruro de metal, a superficie de tungsteno metálico formou unha forte adhesión, espesor de 0,1 μm de nivel de película illante, con altas propiedades dieléctricas.

2. Na industria cloro-álcali lámina de cobre electrolítico, superficie de ánodo electrolítico da industria de osíxeno e industria de augas residuais mesturado con composto de rutenio, composto do grupo de platino para formar película condutora de óxido, mellorar a adhesión da película, prolongar a vida útil do electrodo máis de 5 anos.

3. Preparar pentóxido de tántalo ultrafino.