Nuestra fábrica es el principal fabricante de polvo de aluminio, suministroPolvo de aluminio atomizado con aire,Polvo de aluminio esférico de alta pureza al 99,95%,Polvo de aluminio atomizado con nitrógeno, Polvo de plata de aluminio.
Nuestro polvo de aluminio con grado de industria civil y militar (como FLQT1, FLQT2, FLQT3, FLQT4)
Los campos de aplicación como:;
1- Pigmen Metálicos
【El tamaño de las partículas sonó】:D50=1 – 50 micras
【Pureza】:Al ≥ 99,80%
【control de impurezas】:Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:Color blanco y brillante, fuerte efecto metálico, alta tasa de cobertura, calidad constante entre diferentes lotes, producción personalizada disponible.
2- Material de interfaz térmica
Es adecuado para la industria de la conductividad térmica, material de interfaz térmica, grasa de silicona conductora térmica y adhesivo conductor térmico.
Rango de tamaño de partículas: D50 = 1 – 70 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8%
【control de impurezas】:Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno ≤0,01%
【Características】:alta pureza, buen rendimiento de conductividad térmica, buen rendimiento de procesamiento y buen control de partículas gruesas, producción personalizada disponible.
3- Pasta conductora de células solares
es adecuado para la industria de pasta conductora de células solares, incluida la pasta de aluminio tradicional, PECK, etc., cuyo producto es de buena calidad.
【Rango de tamaño de partículas】:D50=2 – 10 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8 Control de impurezas: Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:alta pureza, buena conductividad eléctrica, buen rendimiento de procesamiento y alta eficiencia de transformación, producción personalizada disponible.
4- Metalurgia de polvos
【Rango de tamaño de partículas】:D50=10 – 300 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8%
【control de impurezas】:Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:alta pureza, bajas impurezas y buen rendimiento de procesamiento, se encuentra disponible producción personalizada.
5- Objetivos de chisporroteo
【Rango de tamaño de partículas】:D50=20 – 70 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8% Control de impurezas: Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:alta pureza, bajas impurezas, bajo contenido de oxígeno y buen rendimiento de procesamiento, se encuentra disponible producción personalizada.
6- En Química
Es adecuado para la industria de catálisis química y puede usarse como portador de catalizadores de metales preciosos o catalizadores orgánicos. También se aplica al alquilo de aluminio, combustibles energéticos, dióxido de titanio y otras industrias.
【Rango de tamaño de partículas】:D50=30 – 500 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8% Control de impurezas: Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:alta pureza, baja impureza, buena esfericidad y distribución concentrada, producción personalizada disponible.
7- Pulverización Térmica
【Rango de tamaño de partículas】:D50=30 – 100 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8% Control de impurezas: Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】: alta pureza, baja impureza, buena uniformidad del tamaño de partículas, producción personalizada disponible.
8- Material refractario
【Rango de tamaño de partículas】:D50=10 – 200 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8% Control de impurezas: Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:alta pureza, baja impureza y buena uniformidad del tamaño de partículas, se encuentra disponible producción personalizada.
9- Impresión 3D
La esencia de la tecnología de impresión 3D es la “tecnología de creación rápida de prototipos”, que se basa en archivos de modelos digitales, utilizando polvo de metal o plástico y otros materiales adhesivos para construir objetos mediante impresión en capas.
【Rango de tamaño de partículas】:D50=10 – 200 micrones
【Pureza】:Al ≥99,8% Control de impurezas: Fe≤0,08%, Si≤0,06%, H2O≤0,1%, otros cada uno≤0,01%
【Características】:alta pureza, baja impureza, buena esfericidad y distribución concentrada, producción personalizada disponible.
10- Industria militar
puede reaccionar conHTPB, para aditivos para propulsores sólidos de cohetes, materiales aeroespaciales y explosivos,
11- Otros etc…
Polvo de Al nodular atomizado con aire | ||||||
Tamaño de partícula(Malla) | Aluminio mínimo (%) | Aluminio activo mínimo (%) | Impurezas Max ( | |||
fe | Y | Con | H2O | |||
malla 30-80 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
30-100 malla | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
malla 30-160 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
malla 60-160 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
malla 80-160 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
- malla 100 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
- malla 200 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
- malla 300 | 99,7 | 98 | 0,2 | 0,06 | 0,01 | 0,08 |
Hora de publicación: 28-jul-2022