Hochreines 99,99 % Tantal(v)chlorid-Pulver TaCl5, Cas 7721-01-9

Ferroelektrischer Dünnfilm, organisches Reaktionschlorierungsmittel, Tantaloxidbeschichtung, Herstellung von Tantalpulver mit hohem CV, Superkondensator usw

1. Auf der Oberfläche elektronischer Komponenten, Halbleiterbauelemente, Titan- und Metallnitrid-Elektrodenoberflächen bildete die Metall-Wolfram-Oberfläche eine starke Haftung mit einer Dicke von 0,1 μm und einem Isolierfilm mit hohen dielektrischen Eigenschaften.

2. In der Chlor-Alkali-Industrie werden elektrolytische Kupferfolien, elektrolytische Anodenoberflächen in der Sauerstoffindustrie und in der Abwasserindustrie mit Rutheniumverbindungen und Platingruppenverbindungen gemischt, um einen leitfähigen Oxidfilm zu bilden, die Filmhaftung zu verbessern und die Lebensdauer der Elektrode um mehr als 5 Jahre zu verlängern.

3. Herstellung von ultrafeinem Tantalpentoxid.